材料简介
不同类型半导体材料的性能对比
应用领域 电力电子(无线充电、快速充电)、微波射频、半导体照明…
发展趋势 1.电力电子领域:
行业发展目标 根据《重点新材料首批次应用示范指导目录(2018 版)》中提出,对于氮化镓单晶衬底,包括 2 英寸及以上 GaN 单晶衬底,需满足位错密度< 5×10 6cm-2 ,半绝缘 GaN 电阻率> 106 Ω· cm;对于功率器件用氮化镓外延片,包括 4 英寸及以上氮化镓外延片,需满足背景载流子浓度 <>16cm-3 ,翘曲小于 50μm,迁移率>600cm2/vs
市场规模预测 据 Research and Markets 预测,到 2023 年全球氮化镓器件市场规模将达 224.7 亿美元。
主要研究单位 / 公司
应用案例 微波器件: GaN 具有高的电子迁移率、高的饱和速度和较低的介电常数,是制作微波器件的优质材料。 光电器件: GaN 及其合金的带隙覆盖了从红色到紫外的光谱范围,是一种理想的短波长发光器件材料。
充电器件: GaN 器件是目前最快的功率开关器件,并且可以在高速开关的情况下仍保持高效率水平,能够应用于更小的元件,应用于充电器时可以有效缩小产品尺寸。 |